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Development of Reactive-Ion Etching for ZnO-Based Nanodevices
Veröffentlicht in IEEE transactions on nanotechnology
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N-channel MOSFETs fabricated on homoepitaxy-grown 3C-SiC films
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Annealing of a Vacancy-Type Defect and Diffusion of Implanted Boron in 6H-SiC
Veröffentlicht in Materials science forum
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Hall Effect and Admittance Measurements of n-Channel 6H-SiC MOSFETs
Veröffentlicht in Materials science forum
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Modelling of Radiation Response of p-Channel SiC MOSFETs
Veröffentlicht in Materials science forum
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