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High-temperature atomic layer deposition of silicon oxide films using Tris(dimethylamino)silane and ozone
von
Kim, Okhyeon
,
Choi, Yoonho
,
Kim, Changgyu
,
Kim, Hye-Lee
,
Lee, Won-Jun
Veröffentlicht in
Ceramics international
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2
Surface reaction during thermal atomic layer etching of aluminum oxide films using fluorine radicals and trimethylaluminum
von
Kim, Yewon
,
Kim, Okhyeon
,
Cho, Gyejun
,
Kim, Hye-Lee
,
Kim, Minsu
,
Cho, Byungchul
,
Park, Sangjoon
,
Jung, Jongwan
,
Lee, Won-Jun
Veröffentlicht in
Applied surface science
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3
Composition control of conformal crystalline GeSbTe films by atomic layer deposition supercycles and tellurization annealing
von
Kim, Yewon
,
Kim, Kwonyoung
,
Kim, Okhyeon
,
Park, Chang Yup
,
Koo, Dong Geon
,
Ahn, Dong-Ho
,
Kuh, Bong Jin
,
Lee, Won-Jun
Veröffentlicht in
Journal of materials chemistry. C, Materials for optical and electronic devices
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4
Growth mechanism of Ge2Sb2Te5 thin films by atomic layer deposition supercycles of GeTe and SbTe
von
Kim, Okhyeon
,
Kim, Yewon
,
Kim, Hye-Lee
,
Wu, Zhe
,
Park, Chang Yup
,
Ahn, Dong-Ho
,
Kuh, Bong Jin
,
Lee, Won-Jun
Veröffentlicht in
Surfaces and interfaces
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5
Correction: Composition control of conformal crystalline GeSbTe films by atomic layer deposition supercycles and tellurization annealing
von
Kim, Yewon
,
Kim, Kwonyoung
,
Kim, Okhyeon
,
Park, Chang Yup
,
Koo, Dong Geon
,
Ahn, Dong-Ho
,
Kuh, Bong Jin
,
Lee, Won-Jun
Veröffentlicht in
Journal of materials chemistry. C, Materials for optical and electronic devices
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6
Thermal Atomic Layer Deposition of Gallium Nitride Films Using Tris(dimethylamido)Gallium and Ammonia
von
CHOI, YeRim
,
Kim, Okhyeon
,
Heo, Jian
,
Kim, Hye-Lee
,
Lee, Won-Jun
Veröffentlicht in
Meeting abstracts (Electrochemical Society)
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7
Atomic Layer Etching of Al 2 O 3 Using F Radical and Al Precursors: Surface Reaction and Reaction Mechanism Study
von
Kim, Yewon
,
Cho, Gyejun
,
Kim, Okhyeon
,
Choi, Ye Rim
,
Khumaini, Khabib
,
Kim, Hye-Lee
,
Kwon, Jun Hyuck
,
Kim, Minsu
,
Cho, Byungchul
,
Park, Sangjoon
,
Lee, Won-Jun
Veröffentlicht in
Meeting abstracts (Electrochemical Society)
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8
Atomic Layer Etching of Al2O3 Using F Radical and Al Precursors: Surface Reaction and Reaction Mechanism Study
von
Kim, Yewon
,
Cho, Gyejun
,
Kim, Okhyeon
,
Choi, Ye Rim
,
Khumaini, Khabib
,
Kim, Hye-Lee
,
Kwon, Jun Hyuck
,
Kim, Minsu
,
Cho, Byungchul
,
Park, Sangjoon
,
Lee, Won-Jun
Veröffentlicht in
Meeting abstracts (Electrochemical Society)
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9
METHOD OF FORMING GERMANIUM ANTIMONY TELLURIUM FILM
von
AHN, Dongho
,
GU, Donggeon
,
PARK, Changyup
,
KIM, Yewon
,
LEE, Won-Jun
,
KIM, Kwonyoung
,
KIM, Okhyeon
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Patent
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GAIT-CKD (Gait Analysis using Artificial Intelligence for digital Therapeutics of patients with Chronic Kidney Disease): design and methods
von
Song, Youngjin
,
Jeong, In Cheol
,
Ryu, Semin
,
Lee, Sunghan
,
Koh, Jeonghwan
,
Jeong, Seokjue
,
Park, Seongmin
,
Kim, Munsang
,
Lee, Wonjun
,
Rye, Okhyeon
,
Kim, Yeojin
,
Lee, Sanggyu
,
Ahn, Mooeob
,
Kim, Hyunsuk
Veröffentlicht in
Kidney research and clinical practice
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Antimony
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Atomic Layer Epitaxy
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Atomic Layer Etching
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Basic Electric Elements
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Chemical Surface Treatment
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Coating Material With Metallic Material
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Coating Metallic Material
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Free Full-Text Journals In Chemistry
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Institute Of Physics Iopscience Extra
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Institute Of Physics Open Access Journal Titles
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Sd College Edition Journals Collection - Physical Sciences [Scps]
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Royal Society Of Chemistry Journals
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Pubmed Central
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