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Mechanism and process dependence of negative bias temperature instability (NBTI) for pMOSFETs with ultrathin gate dielectrics
von
Liu, C.H.
,
Lee, M.T.
,
Chih-Yung Lin
,
Chen, J.
,
Schruefer, K.
,
Brighten, J.
,
Rovedo, N.
,
Hook, T.B.
,
Khare, M.V.
,
Shih-Fen Huang
,
Wann, C.
,
Tze-Chiang Chen
,
Ning, T.H.
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Dual stress liner enhancement in hybrid orientation technology
von
Sheraw, C.D.
,
Yang, M.
,
Fried, D.M.
,
Costrini, G.
,
Kanarsky, T.
,
Lee, W.-H.
,
Chan, V.
,
Fischetti, M.V.
,
Holt, J.
,
Black, L.
,
Naeem, M.
,
Panda, S.
,
Economikos, L.
,
Groschopf, J.
,
Kapur, A.
,
Li, Y.
,
Mo, R.T.
,
Bonnoit, A.
,
Degraw, D.
,
Luning, S.
,
Chidambarrao, D.
,
Wang, X.
,
Bryant, A.
,
Brown, D.
,
Sung, C.-Y.
,
Agnello, P.
,
Ieong, M.
,
Huang, S.-F.
,
Chen, X.
,
Khare, M.
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