Electrically tunable surface micromachined Fabry–Perot interferometer for visible light von Blomberg, M., Kattelus, H., Miranto, A.

Volltext

A 12 MHz micromechanical bulk acoustic mode oscillator von Mattila, T., Kiihamäki, J., Lamminmäki, T., Jaakkola, O., Rantakari, P., Oja, A., Seppä, H., Kattelus, H., Tittonen, I.

Volltext

Silicon full wafer bonding with atomic layer deposited titanium dioxide and aluminum oxide intermediate films von Puurunen, R.L., Suni, T., Ylivaara, O.M.E., Kondo, H., Ammar, M., Ishida, T., Fujita, H., Bosseboeuf, A., Zaima, S., Kattelus, H.

Volltext

Reducing stiction in microelectromechanical systems by rough nanometer-scale films grown by atomic layer deposition von Puurunen, R.L., Häärä, A., Saloniemi, H., Dekker, J., Kainlauri, M., Pohjonen, H., Suni, T., Kiihamäki, J., Santala, E., Leskelä, M., Kattelus, H.

Volltext

Thin film absorbers for visible, near-infrared, and short-wavelength infrared spectra von Laamanen, M., Blomberg, M., Puurunen, R.L., Miranto, A., Kattelus, H.

Volltext

Amorphous Mo-N and Mo-Si-N films in microelectromechanical systems von KATTELUS, H., YLÖNEN, M., BLOMBERG, M.

Volltext

Depth and profile control in plasma etched MEMS structures von Kiihamäki, J., Kattelus, H., Karttunen, J., Franssila, S.

Volltext

14 MHz micromechanical oscillator von Mattila, T., Jaakkola, O., Kiihamäki, J., Karttunen, J., Lamminmäki, T., Rantakari, P., Oja, A., Seppä, H., Kattelus, H., Tittonen, I.

Volltext

Stress control of sputter-deposited Mo-N films for micromechanical applications von KATTELUS, H, KOSKENALA, J, NURMELA, A, NISKANEN, A

Volltext

Low-temperature bonding of thick-film polysilicon for microelectromechanical system (MEMS) von LUOTO, H, SUNI, T, KULAWSKI, M, HENTTINEN, K, KATTELUS, H

Volltext

Implementing ALD Layers in MEMS Processing von Puurunen, Riikka L., Saarilahti, Jaakko, Kattelus, Hannu

Volltext

“Plug-up”–a new concept for fabricating SOI MEMS devices von Kiihamäki, J., Dekker, J., Pekko, P., Kattelus, H., Sillanpää, T., Mattila, T.

Volltext

Potential of amorphous Mo–Si–N films for nanoelectronic applications von Ylönen, M., Kattelus, H., Savin, A., Kivinen, P., Haatainen, T., Ahopelto, J.

Volltext

Plug-up: a new concept for fabricating SOI MEMS devices von KIIHAMÄKI, J, DEKKER, J, PEKKO, P, KATTELUS, H, SILLANPÄÄ, T, MANILA, T

Volltext

A batch process to deposit amorphous metallic Mo-Si-N films von KATTELUS, H, HEIKKINEN, H, HÄÄRÄ, A, YLÖNEN, M, TOLKKI, A

Volltext

Layered tantalum-aluminum oxide films deposited by atomic layer epitaxy von Kattelus, H., Ylilammi, M., Saarilahti, J., Antson, J., Lindfors, S.

Volltext

Wet refinement of dry etched trenches in silicon von KATTELUS, H. P

Volltext

Reduction of molybdenum resistivity by a seed layer of TiW von Franssila, S., Kattelus, H., Nykänen, E.

Volltext

In situ boron-doped LPCVD polysilicon with low tensile stress for MEMS applications von Ylönen, Mari, Torkkeli, Altti, Kattelus, Hannu

Volltext

RF-model extraction for passive components on MCM-Si materials von Ronkainen, H, Riihisaari, T, Kattelus, H

Volltext