Ion projection lithography below 70 nm: tool performance and resist process von Hirscher, S., Kümmel, M., Kirch, O., Domke, W.-D., Wolter, A., Käsmaier, R., Buschbeck, H., Cekan, E., Chalupka, A., Chylik, A., Eder, S., Horner, C., Löschner, H., Nowak, R., Stengl, G., Windischbauer, T., Zeininger, M.

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SOI wafer flow process for stencil mask fabrication von Butschke, J., Ehrmann, A., Höfflinger, B., Irmscher, M., Käsmaier, R., Letzkus, F., Löschner, H., Mathuni, J., Reuter, C., Schomburg, C., Springer, R.

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Planar double gate transistors with asymmetric independent gates von Ilicali, G., Weber, W., Rosner, W., Dreeskornfeld, L., Hartwich, J., Kretz, J., Lutz, T., Mazellier, J.-P., Stadele, M., Specht, M., Luyken, J.R., Landgraf, E., Hofmann, F., Risch, L., Kasmaier, R., Hansch, W.

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Irradiation of solid C60 films with pulsed UV-laser-light : Fabrication of a periodic submicron C60 structure and transformation of C60 into a different carbon phase von KÄSMAIER, R, LÄTSCH, S, HIRAOKA, H

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Influence of Silicon on Insulator Wafer Stress Properties on Placement Accuracy of Stencil Masks von Kamm, Frank-Michael, Ehrmann, Albrecht, Schäfer, Herbert, Pamler, Werner, Käsmaier, Rainer, Butschke, Jörg, Springer, Reinhard, Haugeneder, Ernst, Löschner, Hans

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Tropheryma whipplei in children with diarrhoea in rural Ghana von Vinnemeier, C.D., Klupp, E.M., Krumkamp, R., Rolling, T., Fischer, N., Owusu-Dabo, E., Addo, M.M., Adu-Sarkodie, Y., Käsmaier, J., Aepfelbacher, M., Cramer, J.P., May, J., Tannich, E.

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