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    Mask characteristics for projection electron-beam lithography with demagnification imaging von Kaiwu, Peng, Fuan, Zhang, Guijun, Wu, Wenqi, Gu, Xia, Sun, Niankan, Kang, Qirong, Pu, Zejun, Ding

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    DY-7 sub-0.1 micron EB lithography system

    DY-7 sub-0.1 micron EB lithography system von Gu, Wenqi, Kang, Niankan, Xue, Hong, Tan, Min, Wang, Liming, Zhang, Fuan

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  3. 3
    Electron optics of variable rectangular shaped beam lithography system DJ-2

    Electron optics of variable rectangular shaped beam lithography system DJ-2 von Niankan, Kang

    Veröffentlicht in Journal of electronics (China)

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    DESIGN AND PERFORMANCE OF SHAPING DEFLECTORS FOR VARIABLY SHAPED ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY

    DESIGN AND PERFORMANCE OF SHAPING DEFLECTORS FOR VARIABLY SHAPED ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY von 康念坎 江钧基 吴伟 黄兰友 吴明均

    Veröffentlicht in Journal of electronics (China)

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