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Polypyrrole-based conducting polymer alloy films: physical properties and film morphology
Veröffentlicht in Macromolecules
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Ta/SiN-Structure X-Ray Masks for Sub-Half-Micron LSIs
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Nanometer patterning by focused low energy electron beam lithography
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Soft x‐ray microscope at the undulator beamline of the Photon Factory
Veröffentlicht in Review of Scientific Instruments
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High-accuracy X-ray masks with sub-half-micron 1M-DRAM chips
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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