-
1
-
2
-
3
-
4
-
5
-
6
-
7
-
8
-
9
-
10
-
11
Novel Molecular Resist Based on Derivative of Cholic Acid
Veröffentlicht in Chemistry letters
VolltextArtikel -
12
-
13
-
14
-
15
193-nm Photoresists Based on Norbornene Copolymers with Derivatives of Bile Acid
Veröffentlicht in Chemistry letters
VolltextArtikel -
16
-
17
-
18
Postexposure Delay Effect in Chemically Amplified Resists
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
VolltextArtikel -
19
-
20