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    Some considerations of the thermodynamics and kinetics of the chemical vapour deposition of tungsten

    Some considerations of the thermodynamics and kinetics of the chemical vapour deposition of tungsten von Hitchman, Michael L., Jobson, Andrew D., Kwakman, Loek F.Tz

    Veröffentlicht in Applied surface science

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    Method of measuring the temperature of a sample carrier in a charged particle-optical apparatus von VAN DE WATER, JEROEN, SLINGERLAND, RIK, VAN DEN BOOM, STEPAHNUS, LUECKEN, UWE, KWAKMAN, LOEK, DONA, PLEUN, VERHEIJEN, MARTIN

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