Suchergebnisse - KRISHNAMURTHY SUGIRTHA | OPAC THWS

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Robust gate cap for protecting a gate from downstream metallization etch operations von Krishnamurthy, Sugirtha, Amanapu, Hari Prasad, Kamineni, Vimal, Patlolla, Raghuveer Reddy, Sardesai, Viraj Yashawant, Peethala, Cornelius Brown

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ROBUST GATE CAP FOR PROTECTING A GATE FROM DOWNSTREAM METALLIZATION ETCH OPERATIONS von Krishnamurthy, Sugirtha, Amanapu, Hari Prasad, Kamineni, Vimal, Patlolla, Raghuveer Reddy, Sardesai, Viraj Yashawant, Peethala, Cornelius Brown

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GATE SKIRT OXIDATION FOR IMPROVED FINFET PERFORMANCE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME von LAZAR, Heather, SPORRE, John, ZANG, Hui, GAO, Qun, BAUMERT, Beth, NASSAR, Christopher, ZAINUDDIN, Abu, LEE, Tae Jeong, FERRER LUPPI, Domingo Antonio, LIU, Jinping, PANTISANO, Luigi, SIDDIQUI, Shahab, KRISHNAMURTHY, Sugirtha

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Verfahren zum Herstellen einer Gate-Skirt-Oxidation für verbessertes FinFET-Leistungsvermögen von Gao, Qun, Nassar, Christopher, Zainuddin, Abu, Baumert, Beth, Pantisano, Luigi, Siddiqui, Shahab, Lee, Tae Jeong, Lazar, Heather, Sporre, John, Krishnamurthy, Sugirtha, Zang, Hui, Liu, Jinping, Ferrer Luppi, Domingo Antonio

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Gate skirt oxidation for improved FINFET performance and method for producing the same von ZAINUDDIN, ABU, LEE, TAE-JEONG, NASSAR, CHRISTOPHER, PANTISANO, LUIGI, SPORRE, JOHN, GAO, QUN, SIDDIQUI, SHAHAB, ZANG, HUI, KRISHNAMURTHY, SUGIRTHA, LIU, JINPING, BAUMERT, BETH, LAZAR, HEATHER, FERRER LUPPI, DOMINGO ANTONIO

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Gate skirt oxidation for improved finfet performance and method for producing the same von ZAINUDDIN, ABU, LEE, TAE JEONG, NASSAR, CHRISTOPHER, PANTISANO, LUIGI, SPORRE, JOHN, GAO, QUN, SIDDIQUI, SHAHAB, ZANG, HUI, KRISHNAMURTHY, SUGIRTHA, LIU, JINPING, BAUMERT, BETH, LAZAR, HEATHER, FERRER LUPPI, DOMINGO ANTONIO

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GATE SKIRT OXIDATION FOR IMPROVED FINFET PERFORMANCE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME von LIU JINPING, BAUMERT BETH, FERRER LUPPI DOMINGO ANTONIO, ZAINUDDIN ABU, SIDDIQUI SHAHAB, ZANG HUI, LAZAR HEATHER, SPORRE JOHN, LEE TAE JEONG, GAO QUN, NASSAR CHRISTOPHER, KRISHNAMURTHY SUGIRTHA, PANTISANO LUIGI

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Gate-Skirt-Oxidation für verbessertes FinFET-Leistungsvermögen und Verfahren zum Herstellen selbiger von Gao, Qun, Nassar, Christopher, Zainuddin, Abu, Baumert, Beth, Pantisano, Luigi, Siddiqui, Shahab, Lee, Tae Jeong, Lazar, Heather, Sporre, John, Krishnamurthy, Sugirtha, Zang, Hui, Liu, Jinping, Ferrer Luppi, Domingo Antonio

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Modeling of product temperature in a supercritical fluid extrusion process through dimensional analysis von Pan, Tina Ying, Gopirajah, Rajamanickam, Krishnamurthy, Sugirtha, Rizvi, Syed S.H.

Veröffentlicht in Journal of food process engineering

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