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Atomic Layer Deposition of Iridium Oxide Thin Films from Ir(acac)3 and Ozone
Veröffentlicht in Chemistry of materials
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Atomic Layer Deposition of MgF2 Thin Films Using TaF5 as a Novel Fluorine Source
Veröffentlicht in Chemistry of materials
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Radical Enhanced Atomic Layer Deposition of Tantalum Oxide
Veröffentlicht in Chemistry of materials
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Atomic Layer Deposition of MgF 2 Thin Films Using TaF 5 as a Novel Fluorine Source
Veröffentlicht in Chemistry of materials
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Quantum design and synthesis of a boron–oxygen–yttrium phase
Veröffentlicht in Applied physics letters
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