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Diffusion Barrier Deposition on a Copper Surface by Atomic Layer Deposition
Veröffentlicht in Chemical vapor deposition
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Growth of conductive copper sulfide thin films by atomic layer deposition
Veröffentlicht in Journal of materials chemistry
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Particle Performance of SUNALE(TM) ALD Batch Reactor
Veröffentlicht in Meeting abstracts (Electrochemical Society)
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