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Dissociation Channels of c-C4F8 to CF2 Radical in Reactive Plasma
Veröffentlicht in Jpn J Appl Phys
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Measurement of Negative Ions Generated on the Si Etched Surface
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Negative ions in processing plasmas and their effect on the plasma structure
Veröffentlicht in Applied surface science
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Photodetachment Study of Capacitively-Coupled RF C 4 F 8 Plasma
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Plasma-sheath transition and ion sound speed in weakly collisional plasmas
Veröffentlicht in Physics of plasmas
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