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BCl3/Ar plasma etching for the performance enhancement of Al-doped ZnO thin films
Veröffentlicht in Applied surface science
VolltextArtikel -
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Transition of Cu film to Cu2O film through oxygen plasma treatment
Veröffentlicht in Materials chemistry and physics
VolltextArtikel -
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The etching characteristics of Al2O3 thin films in an inductively coupled plasma
Veröffentlicht in Thin solid films
VolltextArtikel -
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