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A New Method for Line Width Roughness Mitigation
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Spin nano–oscillator–based wireless communication
Veröffentlicht in Scientific reports
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Double-Patterning Technique Using Plasma Treatment of Photoresist
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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A Novel Platform for Production-worthy ArF Resist
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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New ArF Single-Layer Resist for 193-nm Lithography
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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