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Towards the sub-50nm magnetic device definition: Ion beam etching (IBE) vs plasma-based etching
Veröffentlicht in Vacuum
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Towards the sub-50 nm magnetic device definition: Ion beam etching (IBE) vs plasma-based etching
Veröffentlicht in Vacuum
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MR reader sensitivity and SAL magnetic anisotropy
Veröffentlicht in IEEE transactions on magnetics
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