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Improved film quality of plasma enhanced atomic layer deposition SiO{sub 2} using plasma treatment cycle
von
Kim, Haiwon
,
Chung, Ilsub
,
Kim, Seokyun
,
Shin, Seungwoo
,
Jung, Wooduck
,
Hwang, Ryong
,
Jeong, Choonsik
,
Hwang, Hanna
Veröffentlicht in
Journal of vacuum science & technology. A, Vacuum, surfaces, and films
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2
Strain mapping in a nanoscale-triangular SiGe pattern by dark-field electron holography with medium magnification mode
von
Hoang, Van Vuong
,
Cho, Youngji
,
Yoo, Jung Ho
,
Hong, Soon-Ku
,
Choi, Yong Ho
,
Choi, Sungha
,
Jung, Wooduck
,
Jeong, Chang Kyu
,
Yang, Jun-Mo
Veröffentlicht in
Microscopy
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3
2D strain measurement in sub-10 nm SiGe layer with dark-field electron holography
von
Hoang, Van Vuong
,
Cho, Young Ji
,
Yoo, Jung Ho
,
Yang, Jun-Mo
,
Choi, Sungha
,
Jung, Wooduck
,
Choi, Yong Ho
,
Hong, Soon-Ku
Veröffentlicht in
Current applied physics
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4
Charateristics of Low Temperature High Quality Silicon Oxide by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition with In Situ Plasma Densification Process
von
Kim, Haiwon
,
Zaretskiy, Sergey N.
,
Shin, Seungwoo
,
Jung, Wooduck
,
Hwang, Ryong
,
Jeong, Choonsik
,
Park, Seongjin
,
Hwang, Hanna
,
Chung, Ilsub
Veröffentlicht in
ECS transactions
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5
Charateristics of Low Temperature High Quality Silicon Oxide by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition with In Situ Plasma Densification Process
von
Kim, Haiwon
,
Zaretskiy, Sergey N.
,
Shin, Seungwoo
,
Jung, Wooduck
,
Hwang, Ryong
,
Jeong, Choonsik
,
Park, Seongjin
,
Hwang, Hanna
,
Chung, Ilsub
Veröffentlicht in
Meeting abstracts (Electrochemical Society)
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Iopscience Extra
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Institute Of Physics (Iop) Journals - Heal-Link
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Free Full-Text Journals In Chemistry
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Institute Of Physics Open Access Journal Titles
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