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Electron Mobility Enhancement in GeSn n-Channel MOSFETs by Tensile Strain
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Formation of tubular conduction channel in a SiGe(P)/Si core/shell nanowire heterostructure
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Single and double hole quantum dots in strained Ge/SiGe quantum wells
Veröffentlicht in Nanotechnology
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Implant Isolation of Silicon Two-Dimensional Electron Gases at 4.2 K
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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