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Formation of precipitates in heavily boron doped 4H-SiC
Veröffentlicht in Applied surface science
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Self-diffusion of C-12 and C-13 in intrinsic 4H-SiC
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Ion Implantation Processing and Related Effects in SiC
Veröffentlicht in Materials science forum
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Boron Diffusion in Intrinsic, n-Type and p-Type 4H-SiC
Veröffentlicht in Materials science forum
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Hydrogen in the Wide Bandgap Semiconductor Silicon Carbide
Veröffentlicht in Physica scripta
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Doping of Silicon Carbide by Ion Implantation
Veröffentlicht in Materials science forum
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Range Distributions of Implanted Ions in Silicon Carbide
Veröffentlicht in Materials science forum
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Incorporation of Hydrogen (1H and 2H) into 4H-SiC during Epitaxial Growth
Veröffentlicht in Materials science forum
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Dissociation Energy of the Passivating Hydrogen-Aluminum Complex in 4H-SiC
Veröffentlicht in Materials science forum
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Precipitate Formation in Heavily Al-Doped 4H-SiC Layers
Veröffentlicht in Materials science forum
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