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Formation of precipitates in heavily boron doped 4H-SiC
Veröffentlicht in Applied surface science
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Ostwald ripening of interstitial-type dislocation loops in 4H-silicon carbide
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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The 3838 Å photoluminescence line in 4H-SiC
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Solubility limit and precipitate formation in Al-doped 4H-SiC epitaxial material
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Self-diffusion of 12 C and 13 C in intrinsic 4H-SiC
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Dislocation loop evolution in ion implanted 4H–SiC
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Scanning spreading resistance microscopy of aluminum implanted 4H–SiC
Veröffentlicht in Materials Science & Engineering
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Hydrogen–boron complex formation and dissociation in 4H–silicon carbide
Veröffentlicht in Applied surface science
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