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Ion implantation range distributions in silicon carbide
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Solubility limit and precipitate formation in Al-doped 4H-SiC epitaxial material
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Transient enhanced diffusion of implanted boron in 4H-silicon carbide
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Formation of precipitates in heavily boron doped 4H-SiC
Veröffentlicht in Applied surface science
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Boron Diffusion in Intrinsic, n-Type and p-Type 4H-SiC
Veröffentlicht in Materials science forum
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Hydrogen–boron complex formation and dissociation in 4H–silicon carbide
Veröffentlicht in Applied surface science
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Dissociation Energy of the Passivating Hydrogen-Aluminum Complex in 4H-SiC
Veröffentlicht in Materials science forum
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A germline variant in the TP53 polyadenylation signal confers cancer susceptibility
Veröffentlicht in Nature genetics
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Hydrogen passivation of silicon carbide by low-energy ion implantation
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Dislocation loop evolution in ion implanted 4H–SiC
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