-
1
-
2
-
3
-
4
-
5
-
6
-
7
-
8
-
9
-
10
Electron beam lithography over topography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
VolltextArtikel -
11
-
12
-
13
Passivation effects in novolak based resists during O2-RIE
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
VolltextArtikel -
14
Passivation effects in novolak based resists during O 2-RIE
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
VolltextArtikel -
15
-
16
Influence of interdiffusion and surfactants on Si/SiGe heterointerfaces
Veröffentlicht in Applied surface science
VolltextArtikel -
17
-
18
Resist process to join electron beam lithography and photolithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
VolltextArtikel -
19
-
20