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Selective etching of silicon nitride over silicon oxide using ClF3/H2 remote plasma
Veröffentlicht in Scientific reports
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Low-temperature wafer-scale growth of MoS2-graphene heterostructures
Veröffentlicht in Applied surface science
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Highly selective etching of SiNx over SiO2 using ClF3/Cl2 remote plasma
Veröffentlicht in Nanotechnology
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Highly selective etching of SiN x over SiO 2 using ClF 3 /Cl 2 remote plasma
Veröffentlicht in Nanotechnology
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