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Bottom Oxide Bulk FinFETs Without Punch-Through-Stopper for Extending Toward 5-nm Node
Veröffentlicht in IEEE access
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Monolithic 3D 6T-SRAM Based on Newly Designed Gate and Source/Drain Bottom Contact Schemes
Veröffentlicht in IEEE access
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Source/Drain Patterning FinFETs as Solution for Physical Area Scaling Toward 5-nm Node
Veröffentlicht in IEEE access
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