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Chemical vapour deposition of Si3N4 from a gas mixture of Si2Cl6, NH3 and H2
Veröffentlicht in Journal of materials science
VolltextArtikel -
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Deposition and microhardness of SiC from the Si2Cl6-C3H8-H2-Ar system
Veröffentlicht in Journal of materials science
VolltextArtikel -
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