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Surface Property Control for 193nm Immersion Resist
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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Pattern Freezing Process Free Litho–Litho–Etch Double Patterning
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Dissolution Kinetics in Chemically Amplified EUV Resist
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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The Photopolymer Science and Technology Award
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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