Suchergebnisse - Hugrass, Waheed | OPAC THWS

1

An Extreme Ultraviolet Source for Photolithographic Applications Based on Rotamak Discharge von Hugrass, Waheed, Ohnishi, Masami, Chikano, Tomonori, Tsukamoto, Masanobu

Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics

Volltext
Artikel

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
2

Microwave discharge plasma production with resonant cavity for EUV mask inspection tool von Tashima, Saya, Ohnishi, Masami, Hugrass, Waheed, Sugimoto, Keita, Sakaguchi, Masatugu, Osawa, Hodaka, Nishimura, Hiroaki, Matsukuma, Hiraku

Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics

Volltext
Artikel

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
3

Calibration of spatially nonuniform sensitivity for a spectral line emission measuring system von Guoxiang Xu, Haydon, S.C., Hugrass, W.N.

Veröffentlicht in IEEE transactions on instrumentation and measurement

Volltext
Artikel

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
4

Light source device and method for generating extreme ultraviolet light von ONISHI MASASHI, HUGRASS WAHEED

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
5

LIGHT SOURCE FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY von ONISHI MASAMI, WAHEED HUGRASS

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
6

EUV LIGHT SOURCE DEVICE AND METHOD FOR GENERATING EUV LIGHT von ONISHI, MASAMI, WAHEED, HUGRASS, TASHIMA, SAYA

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in:
7

EUV LIGHT SOURCE APPARATUS AND METHOD FOR GENERATING EUV LIGHT von ONISHI, MASAMI, WAHEED, HUGRASS, TASHIMA, SAYA

Volltext bestellen

Patent

In die Zwischenablage Aus der Zwischenablage entfernen
Zu den Favoriten

Gespeichert in: