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Kinetic Model for Positive Tone Resist Dissolution and Roughening
Veröffentlicht in Macromolecules
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Method of measuring the spatial resolution of a photoresist
Veröffentlicht in Optics letters
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Nanoimprint Materials Systems
Veröffentlicht in Journal of Photopolymer Science and Technology
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Antiadhesion considerations for UV nanoimprint lithography
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Stochastic simulations of temperature programmed desorption kinetics
Veröffentlicht in Surface science
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Basic mechanisms in laser etching and deposition
Veröffentlicht in Applied Physics A Solids and Surfaces
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Photostimulated desorption in laser-assisted etching of silicon
Veröffentlicht in Physical review letters
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Chemical changes accompanying facet degradation of AlGaAs quantum well lasers
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Photochemical generation and deposition of copper from a gas phase precursor
Veröffentlicht in Applied physics letters
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