Millisecond flash lamp annealing of shallow implanted layers in Ge von Wündisch, C., Posselt, M., Schmidt, B., Heera, V., Schumann, T., Mücklich, A., Grötzschel, R., Skorupa, W., Clarysse, T., Simoen, E., Hortenbach, H.

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Investigations of field-evaporated end forms in voltage- and laser-pulsed atom probe tomography von Shariq, A., Mutas, S., Wedderhoff, K., Klein, C., Hortenbach, H., Teichert, S., Kücher, P., Gerstl, S.S.A.

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Surfactant mediated growth of MnSi1.7 on Si(001) von Teichert, S., Hortenbach, H., Hinneberg, H.-J.

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Surfactant effect of Sb on the growth of MnSi1.7 layers on Si(0 01) von Mogilatenko, A, Falke, M, Hortenbach, H, Teichert, S, Beddies, G, Hinneberg, H-J

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Surfactant effect of Sb on the growth of MnSi 1.7 layers on Si(0 0 1) von Mogilatenko, A., Falke, M., Hortenbach, H., Teichert, S., Beddies, G., Hinneberg, H.-J.

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Surfactant mediated growth of MnSi1.7 layers on (001)Si von MOGILATENKO, A, FALKE, M, TEICHERT, S, HORTENBACH, H, BEDDIES, G, HINNEBERG, H.-J

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Epitaxial growth of CrSi2 on Si(0 0 1) by template technique von FILONENKO, O, MOGILATENKO, A, HORTENBACH, H, ALLENSTEIN, F, BEDDIES, G, HINNEBERG, H.-J

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Influence of ultrathin templates on the epitaxial growth of CrSi2 on Si(001) von Filonenko, O., Mogilatenko, A., Hortenbach, H., Allenstein, F., Beddies, G., Hinneberg, H.-J.

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Surfactant mediated growth of silicides von TEICHERT, S, HORTENBACH, H, BEDDIES, G, HINNEBERG, H.-J

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Surfactant-mediated growth of TiSi2 on Si(001) von HORTENBACH, H, FALKE, M, TEICHERT, S, BEDDIES, G, HINNEBERG, H.-J

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P implantation into preamorphized germanium and subsequent annealing: Solid phase epitaxial regrowth, P diffusion, and activation von Posselt, M., Schmidt, B., Anwand, W., Grötzschel, R., Heera, V., Mücklich, A., Wündisch, C., Skorupa, W., Hortenbach, H., Gennaro, S., Bersani, M., Giubertoni, D., Möller, A., Bracht, H.

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Plasma etching of ternary silicide top layers von Beddies, G, Hortenbach, H, Falke, M, Bräuer, J, Sarkar, D.K, Teichert, S, Hinneberg, H.-J

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Passivation of Si(001) by the surfactant Sb and its influence on the NiSi2 growth von MOGILATENKO, Anna, FALKE, Meiken, HORTENBACH, Heiko, TEICHERT, Steffen, BEDDIES, Gunter, HINNEBERG, Hans-Jürgen

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Structure of thin CrSi2 films on Si(0 0 1) von Filonenko, O, Falke, M, Hortenbach, H, Henning, A, Beddies, G, Hinneberg, H.-J

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Epitaxial growth of CrSi 2 on Si(0 0 1) by template technique von Filonenko, O, Mogilatenko, A, Hortenbach, H, Allenstein, F, Beddies, G, Hinneberg, H.-J

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Surfactant mediated growth of MnSi sub(1.7) layers on (001)Si von Falke, M, Teichert, S, Hortenbach, H, Beddies, G, Hinneberg, H-J, Mogilatenko, Anna

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Surfactant-mediated growth of TiSi 2 on Si(001) von Hortenbach, H, Falke, M, Teichert, S, Beddies, G, Hinneberg, H.-J

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Surfactant mediated growth of MnSi 1.7 layers on (001)Si von Mogilatenko, A., Falke, M., Teichert, S., Hortenbach, H., Beddies, G., Hinneberg, H.-J.

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Plasma etching of ternary silicide top layers von Beddies, G, Hortenbach, H, Faike, M, Brauer, J, Sarkar, D K, Teichert, S, Hinneberg, H J

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Surfactant-mediated growth of TiSi sub(2) on Si(001) von Falke, M, Teichert, S, Beddies, G, Hinneberg, H-J, Hortenbach, Heiko

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