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Development of the Self-Aligned Titanium Silicide Process for VLSI Applications
von
Alperin, M.E.
,
Hollaway, T.C.
,
Haken, R.A.
,
Gosmeyer, C.D.
,
Karnaugh, R.V.
,
Parmantie, W.D.
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IEEE journal of solid-state circuits
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Development of the self-aligned titanium silicide process for VLSI applications
von
Alperin, M.E.
,
Holloway, T.C.
,
Haken, R.A.
,
Gosmeyer, C.D.
,
Karnaugh, R.V.
,
Parmantie, W.D.
Veröffentlicht in
IEEE transactions on electron devices
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