A new metal-organic chemical vapor deposition process for selective copper metallization von Norman, J.A.T., Muratore, B.A., Dyer, P.N., Roberts, D.A., Hochberg, A.K., Dubois, L.H.

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A new liquid chlorine source for silicon oxidation von HOCHBERG, A. K, LAGENDIJK, A, WERMER, P, ROBERTS, D. A, AGNY, R, ANDERS, B, COTNER, R, JEWETT, J, MULREADY, J, TRAN, M, TRIPLETT, B. B

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Deposition of silicon dioxide and silicon oxynitride using bis(tertiarybutylamino) von D.A. ROBERTS, A.K. HOCHBERG, R.K. LAXMAN

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New OMCVD precursors for selective copper metallization von Norman, J.A.T., Muratore, B.A., Dyer, P.N., Roberts, D.A., Hochberg, A.K.

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Band structure of silicon by Pseudo-OPW von Hochberg, A.K., Westgate, C.R.

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Fast High Current Pulse Generator von Pearce, T. W., Hochberg, A. K., Poehler, T. O.

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