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    CAMP-6, a deep-UV positive tone resist applied to E-beam exposure

    CAMP-6, a deep-UV positive tone resist applied to E-beam exposure von Hintermaier, Magdalena, Anzinger, Hermann, Knapek, Erwin

    Veröffentlicht in Microelectronic engineering

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    METHOD FOR PRODUCING UNIFORM POLYMETHYLMETHACRYLATE LAYERS

    METHOD FOR PRODUCING UNIFORM POLYMETHYLMETHACRYLATE LAYERS von FORMANEK, HELMUT, HINTERMAIER, MAGDALENA, KNAPEK, ERWIN, LISCHKE, BURKHARD

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    PROCESS FOR PRODUCING HOMOGENEOUS POLYMETHYLACRYLATE LAYERS

    PROCESS FOR PRODUCING HOMOGENEOUS POLYMETHYLACRYLATE LAYERS von KNAPEK, ERWIN, LISCHKE, BURKHARD, HINTERMAIER, MAGDALENA, FORMANEK, HELMUT

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    Process for producing homogeneous polymethylmethacrylate (PMMA) layers

    Process for producing homogeneous polymethylmethacrylate (PMMA) layers von KNAPEK, ERWIN, LISCHKE, BURKHARD, HINTERMAIER, MAGDALENA, FORMANEK, HELMUT

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