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Silicide Engineering to Boost Si Tunnel Transistor Drive Current
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
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Fabrication and Analysis of a / Heterojunction Line Tunnel FET
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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The Role of Nonidealities in the Scaling of MoS2 FETs
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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High-Performance Deep Submicron Ge pMOSFETs With Halo Implants
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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High Performance 70-nm Germanium pMOSFETs With Boron LDD Implants
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Electrical characterization of CNT contacts with Cu Damascene top contact
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Atomic layer deposition of hafnium oxide on germanium substrates
Veröffentlicht in Journal of applied physics
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Soft breakdown of ultra-thin gate oxide layers
Veröffentlicht in IEEE transactions on electron devices
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