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Advanced manufacturing equipment: a vertical batch furnace for 300-mm wafer processing
Veröffentlicht in IEEE MICRO
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Transport phenomena in tungsten LPCVD in a single-wafer reactor
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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In Situ Growth Rate Measurement of Selective LPCVD of Tungsten
Veröffentlicht in Journal of the Electrochemical Society
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