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Growth of 3C–SiC on 150-mm Si(100) substrates by alternating supply epitaxy at 1000 °C
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The use of titanium and titanium dioxide as masks for deep silicon etching
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Nitridation of silicon-dioxide films grown on 6H silicon carbide
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Modeling the growth of thin silicon oxide films on silicon
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Model for dielectric growth on silicon in a nitrous oxide environment
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Measurement of plasma etch damage by a new slow trap profiling technique
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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Using TLM principles to determine MOSFET contact and parasitic resistance
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Slow current transients in metal–oxide–semiconductor capacitors
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Improved reliability of NO-nitrided SiO 2 grown on p-type 4H-SiC
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