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THROUGH SILICON VIA MACRO WITH DENSE LAYOUT FOR PLACEMENT IN AN INTEGRATED CIRCUIT FLOORPLAN
von
HORIUCHI, Aaron Keiichi
,
CHEN, Te-Hsuan
,
CLAY, Donald A
,
GRIFFITH, Michael Edward
,
XIE, Ruochen
,
STANFORD, Hye Jung
,
WILCOX, Kathryn E
,
BUSTA, Eric William
,
DUSSINGER, Stephen J
,
LAUB JR., William Edwin
,
SCHREIBER, Russell
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THROUGH SILICON VIA MACRO WITH DENSE LAYOUT FOR PLACEMENT IN AN INTEGRATED CIRCUIT FLOORPLAN
von
Clay, Donald A
,
Dussinger, Stephen J
,
Laub, JR., William Edwin
,
Horiuchi, Aaron Keiichi
,
Schreiber, Russell
,
Stanford, Hye Jung
,
Busta, Eric William
,
Wilcox, Kathryn E
,
Griffith, Michael Edward
,
Xie, Ruochen
,
Chen, Te-Hsuan
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Voltage supply noise analysis
von
Horiuchi, Aaron Keiichi
,
Burnside, Clark Douglas
,
Dixon, Stephen LaMar
,
Hannum, David Paul
,
Coppin, Justin Allan
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4
Voltage supply noise analysis
von
HANNUM DAVID PAUL
,
DIXON STEPHEN LAMAR
,
COPPIN JUSTIN ALLAN
,
BURNSIDE CLARK DOUGLAS
,
HORIUCHI AARON KEIICHI
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Voltage supply noise analysis
von
HANNUM DAVID PAUL
,
DIXON STEPHEN LAMAR
,
COPPIN JUSTIN ALLAN
,
BURNSIDE CLARK DOUGLAS
,
HORIUCHI AARON KEIICHI
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