Atmospheric-Pressure Plasmas for Wide-Area Thin-Film Deposition and Etching von Hopfe, Volkmar, Sheel, David W.

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Atmospheric-Pressure PECVD Coating and Plasma Chemical Etching for Continuous Processing von Hopfe, V., Sheel, D.W.

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Gesicherte Interpretationen der FTIR-Reflexionsspektren von SiC–CVD-Schichten durch Spektrensimulation von Grählert, Wulf, Hopfe, Volkmar

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Laser CVD – Status und industrielles Potential für Faserbeschichtungen von Hopfe, Volkmar

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Laser CVD – Status und industrielles Potential für Faserbeschichtungen von Hopfe, Volkmar

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Linear Extended ArcJet-CVD - a New PECVD Approach for Continuous Wide Area Coating Under Atmospheric Pressure von Hopfe, V., Rogler, D., Maeder, G., Dani, I., Landes, K., Theophile, E., Dzulko, M., Rohrer, C., Reichhold, C.

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Remote Microwave PECVD for Continuous, Wide-Area Coating Under Atmospheric Pressure von Hopfe, V., Spitzl, R., Dani, I., Maeder, G., Roch, L., Rogler, D., Leupolt, B., Schoeneich, B.

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Plasmachemische Gasphasenabscheidung und Plasmaätzen bei Atmosphärendruck von Dani, Ines, Hopfe, Volkmar, Rogler, Daniela, Lopez, Elena, Mäder, Gerrit

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Remote microwave PECVD for continuous, wide-area coating under atmospheric pressure: Atmospheric pressure plasma enhanced CVD (AP-PECVD) von HOPFE, Volkmar, SPITZL, Ralf, DANI, Ines, MAEDER, Gerrit, ROCH, Liliana, ROGLER, Daniela, LEUPOLT, Beate, SCHOENEICH, Bolko

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Microwave PECVD for continuous wide area coating at atmospheric pressure von Dani, Ines, Tschocke, Sebastian, Kotte, Liliana, Mader, Gerrit, Dresler, Birte, Hopfe, Volkmar

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Mikrowellen‐PECVD für kontinuierliche Großflächenbeschichtung bei Atmosphärendruck von Dani, Ines, Tschöcke, Sebastian, Kotte, Liliana, Mäder, Gerrit, Dresler, Birte, Hopfe, Volkmar

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PECVD and plasma etching at atmospheric pressure by means of a linearly-extended DC arc plasma source von Dani, Ines, Hopfe, Volkmar, Rogler, Daniela, Lopez, Elena, Mäder, Gerrit

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Linear extended ArcJet-CVD : a new PECVD approach for continuous wide area coating under atmospheric pressure: Atmospheric pressure plasma enhanced CVD (AP-PECVD) von HOPFE, Volkmar, ROGLER, Daniela, MAEDER, Gerrit, DANI, Ines, LANDES, Klaus, THEOPHILE, Eckart, DZULKO, Marc, ROHRER, Christian, REICHHOLD, Christian

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Laser CVD - Status und industrielles Potential für Faserbeschichtungen von Hopfe, Volkmar

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DEVICE FOR DETERMINING THE PERMEATION RATE OF AT LEAST ONE PERMEATE THROUGH AN ELEMENT THAT FORMS A DIFFUSION BARRIER von BEESE, HARALD, HOPFE, VOLKMAR, GRÄHLERT, WULF

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PECVD and plasma etching at atmospheric pressure by means of a linearly-extended DC arc plasma source von Dani, Ines, Hopfe, Volkmar, Rogler, Daniela, Lopez, Elena, Mäder, Gerrit

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Plasmachemische Gasphasenabscheidung und Plasmaätzen bei Atmosphärendruck von Dani, Ines, Hopfe, Volkmar, Rogler, Daniela, Lopez, Elena, Mäder, Gerrit

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Verfahren zum selektiven plasmachemischen Trockenätzen von auf Oberflächen von Silicium-Wafern ausgebildetem Phosphorsilikatglas von HOPFE, VOLKMAR, DANI, INES

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Mikrowellen-PECVD für kontinuierliche Großflächenbeschichtung bei Atmosphärendruck von Dani, Ines, Tschöcke, Sebastian, Kotte, Liliana, Mäder, Gerrit, Dresler, Birte, Hopfe, Volkmar

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p- and s-polarized FTIR reflectance spectroscopy at oblique incidence by Kramers-Kronig transformation von Hopfe, V, Bussemer, P, Richter, E, Klobes, P

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