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Iron and its complexes in silicon
Veröffentlicht in Applied physics. A, Materials science & processing
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Iron contamination in silicon technology
Veröffentlicht in Applied physics. A, Materials science & processing
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Intrinsic Diffusion Coefficient of Interstitial Copper in Silicon
Veröffentlicht in Physical review letters
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Interstitial copper-related center in n-type silicon
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Gettering simulator: physical basis and algorithm
Veröffentlicht in Semiconductor science and technology
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Transient ion drift detection of low level copper contamination in silicon
Veröffentlicht in Applied physics letters
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The dissociation energy and the charge state of a copper-pair center in silicon
Veröffentlicht in Applied physics letters
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