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SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
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SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
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Semiconductor devices
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HEO, YEONOL
,
CANTORO, MIRCO
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Metal layer patterns of semiconductor device and method for forming the same
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Semiconductor device having conductive layer within field oxide layer and method for forming the same
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HEO YEONOL
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Semiconductor device having conductive layer within field oxide layer and method for forming the same
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HEO, YEONOL
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Method for fabricating for DRAM device
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HEO, YEONOL
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INTEGRATED CIRCUIT DEVICE
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YEONOL HEO
,
MARIA TOLEDANO LUQUE
,
MIRCO CANTORO
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Integrated Circuit Devices and Methods of Manufacturing the Same
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YEONOL HEO
,
MARIA TOLEDANO LUQUE
,
MIRCO CANTORO
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SEMICONDUCTOR DEVICES
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YUN, SEUNGAN
,
LEE, YUN-IL
,
YOE, CHANG-MIN
,
LEE, HYUNG-SUK
,
HEO, YEONOL
,
CANTORO, MIRCO
,
LEE, DONG-HUN
,
KIM, BYOUNG-GI
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Metal layer patterns of semiconductor device and method for forming the same
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YEONOL HEO
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Metal layer patterns of a semiconductor device and a method for forming the same
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HEO, YEONOL
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Semiconductor devices
von
YUN-IL LEE
,
YEONOL HEO
,
SEUNGAN YUN
,
DONG-HUN LEE
,
BYOUNG-GI KIM
,
MIRCO CANTORO
,
CHANG-MIN YOE
,
HYUNG-SUK LEE
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Esp@Cenet
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