Suchergebnisse - HALLMEYER KLAUS

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Apparatus and method for acquiring a complete image of a surface of a semiconductor substrate von HALLMEYER KLAUS, HARTLEB REGINA, IFFLAND THOMAS

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Uncoupled wafer inclination measurement with an ellipsometer with spectral photometer and measurement of focus by a reflecting objective von HOFFMANN, GUENTER, WIENECKE, JOACHIM, HALLMEYER, KLAUS

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Optical measurement arrangement and method for inclination measurement von WIENECKE JOACHIM, HOFFMANN GUENTER, HALLMEYER KLAUS

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Optical measurement arrangement and method for inclination measurement von Hallmeyer, Klaus, Wienecke, Joachim, Hoffmann, Guenter

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Optical measurement-arrangement and method to measure an inclination of a measurement-position on a sample mapped by an objective von HOFFMANN, GUNTER, WIENECKE, JOACHIM, HALLMEYER, KLAUS

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OPTICAL MEASURING APPARATUS AND INCLINATION MEASURING METHOD von WIENECKE JOACHIM, HOHMANN GUENTER, HALLMEYER KLAUS

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Optical measurement arrangement and method for inclination measurement von Hallmeyer, Klaus, Wienecke, Joachim, Hoffmann, Guenter

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Optical measurement arrangement and method for inclination measurement von WIENECKE JOACHIM, HOFFMANN GUENTER, HALLMEYER KLAUS

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Vorrichtung und Verfahren zur Aufnahme eines Gesamtbildes einer Oberfläche eines Halbleitersubstrats von IFFLAND, THOMAS, HARTLEB, REGINA, HALLMEYER, KLAUS

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Vorrichtung und Verfahren zur Aufnahme eines Gesamtbildes einer Oberfläche eines Halbleitersubstrats von IFFLAND, THOMAS, HARTLEB, REGINA, HALLMEYER, KLAUS

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Uncoupled wafer inclination measurement with an ellipsometer with spectral photometer and measurement of focus by a reflecting objective von HOFFMANN, GUENTER, WIENECKE, JOACHIM, HALLMEYER, KLAUS

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Optische Messanordnung und Verfahren zur Neigungsmessung von HOFFMANN, GUENTER, WIENECKE, JOACHIM, HALLMEYER, KLAUS

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Illumination system, esp. for microscope - contains light source and optical imaging system with prismatic reflector rod forming secondary source, giving uniform illumination von HALLMEYER, KLAUS., O-6906 KAHLA, DE, GOLDSCHMIDT, RALF.., O-6902 JENA, DE, SCHLICHTING, JOHANNES.NAT., O-6908 JENA, DE, PUDENZ, JUERGEN.., O-6902 JENA, DE

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14

ANORDNUNG ZUR SIGNALKORREKTUR BEI BELEUCHTUNGSSTAERKE- UND INTEGRATIONSZEITSCHWANKUNGEN AN INTEGRIERENDEN BILDSENSOREN von HALLMEYER,KLAUS,DE, BORNHEIM,ROLAND,DE, GITTLER,GUENTER,DE, RICHTER,UWE,DE

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15

ANORDNUNG ZUR SIGNALKORREKTUR BEI BELEUCHTUNGSSTAERKE- UND INTEGRATIONSZEITSCHWANKUNGEN AN INTEGRIERENDEN BILDSENSOREN II von HALLMEYER,KLAUS,DE, BORNHEIM,ROLAND,DE, GITTLER,GUENTER,DE, RICHTER,UWE,DE

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Apparatus and method for acquiring a complete image of a surface of a semiconductor substrate von HALLMEYER KLAUS, HARTLEB REGINA, IFFLAND THOMAS

Uncoupled wafer inclination measurement with an ellipsometer with spectral photometer and measurement of focus by a reflecting objective von HOFFMANN, GUENTER, WIENECKE, JOACHIM, HALLMEYER, KLAUS

Optical measurement arrangement and method for inclination measurement von WIENECKE JOACHIM, HOFFMANN GUENTER, HALLMEYER KLAUS

Optical measurement arrangement and method for inclination measurement von Hallmeyer, Klaus, Wienecke, Joachim, Hoffmann, Guenter

Optical measurement-arrangement and method to measure an inclination of a measurement-position on a sample mapped by an objective von HOFFMANN, GUNTER, WIENECKE, JOACHIM, HALLMEYER, KLAUS

OPTICAL MEASURING APPARATUS AND INCLINATION MEASURING METHOD von WIENECKE JOACHIM, HOHMANN GUENTER, HALLMEYER KLAUS

Optical measurement arrangement and method for inclination measurement von Hallmeyer, Klaus, Wienecke, Joachim, Hoffmann, Guenter

Optical measurement arrangement and method for inclination measurement von WIENECKE JOACHIM, HOFFMANN GUENTER, HALLMEYER KLAUS

Vorrichtung und Verfahren zur Aufnahme eines Gesamtbildes einer Oberfläche eines Halbleitersubstrats von IFFLAND, THOMAS, HARTLEB, REGINA, HALLMEYER, KLAUS

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Uncoupled wafer inclination measurement with an ellipsometer with spectral photometer and measurement of focus by a reflecting objective von HOFFMANN, GUENTER, WIENECKE, JOACHIM, HALLMEYER, KLAUS

Optische Messanordnung und Verfahren zur Neigungsmessung von HOFFMANN, GUENTER, WIENECKE, JOACHIM, HALLMEYER, KLAUS

ANORDNUNG ZUR SIGNALKORREKTUR BEI BELEUCHTUNGSSTAERKE- UND INTEGRATIONSZEITSCHWANKUNGEN AN INTEGRIERENDEN BILDSENSOREN von HALLMEYER,KLAUS,DE, BORNHEIM,ROLAND,DE, GITTLER,GUENTER,DE, RICHTER,UWE,DE

ANORDNUNG ZUR SIGNALKORREKTUR BEI BELEUCHTUNGSSTAERKE- UND INTEGRATIONSZEITSCHWANKUNGEN AN INTEGRIERENDEN BILDSENSOREN II von HALLMEYER,KLAUS,DE, BORNHEIM,ROLAND,DE, GITTLER,GUENTER,DE, RICHTER,UWE,DE

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