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Overview of growth and behaviour of clusters and particles in plasmas
Veröffentlicht in Plasma sources science & technology
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Ion chemistry in octafluorocyclobutane, c-C4F8
Veröffentlicht in Chemical physics letters
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Ionic and neutral growth of dust in plasmas
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Ionization of C3F8 by electron and ion impact
Veröffentlicht in Chemical physics letters
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Ion chemistry in tetraethylorthosilicate (C2H5O)4Si
Veröffentlicht in Chemical physics letters
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Stiffer under strain: mechanical properties of poly- p-phenylene
Veröffentlicht in Polymer (Guilford)
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Ion chemistry in tetramethylsilane (CH 3) 4Si
Veröffentlicht in Chemical physics letters
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On form and flow in dusty plasmas
Veröffentlicht in Plasma sources science & technology
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