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Five-Step (Pad-Pad Short-Pad Open-Short-Open) De-Embedding Method and Its Verification
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IN MAN KANG
,
JUNG, Seung-Jae
,
KIM, Han-Gu
,
CHOI, Kyu-Myung
,
CHOI, Tae-Hoon
,
JUNG, Jae-Hong
,
CHUNG, Chulho
,
KIM, Han-Su
,
OH, Hansu
,
HYUN WOO LEE
,
JO, Gwangdoo
,
KIM, Young-Kwang
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Scalable Model of Substrate Resistance Components in RF MOSFETs With Bar-Type Body Contact Considered Layout Dimensions
von
IN MAN KANG
,
JUNG, Seung-Jae
,
CHOI, Tae-Hoon
,
LEE, Hyunwoo
,
JO, Gwangdoo
,
KIM, Young-Kwang
,
KIM, Han-Gu
,
CHOI, Kyu-Myung
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RF Model of BEOL Vertical Natural Capacitor (VNCAP) Fabricated by 45-nm RF CMOS Technology and Its Verification
von
IN MAN KANG
,
JUNG, Seung-Jae
,
KIM, Young-Kwang
,
KIM, Han-Gu
,
CHOI, Kyu-Myung
,
CHOI, Tae-Hoon
,
JUNG, Jae-Hong
,
CHUNG, Chulho
,
KIM, Han-Su
,
PARK, Kangwook
,
OH, Hansu
,
LEE, Hyun-Woo
,
JO, Gwangdoo
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Effect of technology scaling on RF performance of the transistors fabricated by standard CMOS technology
von
Han-Su Kim
,
Chulho Chung
,
Joohyun Jeong
,
Seung-Jae Jung
,
Jinsung Lim
,
JinHyoun Joe
,
Jaehoon Park
,
HyunWoo Lee
,
Gwangdoo Jo
,
Kangwook Park
,
Jedon Kim
,
Hansu Oh
,
Jong Shik Yoon
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