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New generation of Self Ionized Plasma copper seed for sub 40 nm nodes
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
VolltextArtikel -
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Strains in BaTiO3 thin film deposited onto Pt-coated Si substrate
Veröffentlicht in Applied physics letters
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New generation of Self Ionized Plasma copper seed for sub 40nm nodes
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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