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Low temperature dielectric relaxation and charged defects in ferroelectric thin films
Veröffentlicht in AIP advances
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Towards the limits of conventional MOSFETs: case of sub 30 nm NMOS devices
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Low frequency noise characterization of 0.25 μm Si CMOS transistors
Veröffentlicht in Journal of non-crystalline solids
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Stress induced leakage current at low field in ultra thin oxides
Veröffentlicht in Microelectronics and reliability
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Three level charge pumping on a single interface trap
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
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