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The New Jersey Chemistry Olympics Revisited
Veröffentlicht in Journal of chemical education
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High rate etching of SiC and SiCN in NF3 inductively coupled plasmas
Veröffentlicht in Solid-state electronics
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Thermal stability of dry etch damage in SiC
Veröffentlicht in Applied physics letters
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Low-pressure chemical vapor deposition of silicon dioxide using diethylsilane
Veröffentlicht in Chemistry of materials
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Hydrogen passivation in n- and p-type 6H-SiC
Veröffentlicht in Journal of electronic materials
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Surface composition and particle size in solder powders
Veröffentlicht in Materials science and engineering
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