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Maskless electron beam lithography: prospects, progress, and challenges
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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EL-3+ electron beam direct write system
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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The Colombian National Front and Administrative Reform
Veröffentlicht in Administration & society
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Spatial-phase locking with shaped-beam lithography
Veröffentlicht in Review of scientific instruments
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Progress in E-beam mask making for optical and x-ray lithography
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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Administrative Reform and the Politics of Reform: The Case of Venezuela
Veröffentlicht in Public administration review
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