-
1
-
2
Irradiation of the amorphous carbon films by picosecond laser pulses
Veröffentlicht in Thin solid films
VolltextArtikel -
3
-
4
-
5
-
6
-
7
-
8
-
9
The surface composition of GaAs affected by reactive plasma
Veröffentlicht in Surface & coatings technology
VolltextArtikel -
10
-
11
-
12
Formation of polymeric layers using halogen–carbon plasmas
Veröffentlicht in Vacuum
VolltextArtikel -
13
Real dimensional simulation of anisotropic etching of silicon in CF4+ O2 plasma
Veröffentlicht in Vacuum
VolltextArtikel -
14
-
15
Investigation of ion irradiation effects in a-SiXC1-X:H thin films
Veröffentlicht in Vacuum
VolltextArtikel -
16
Nanostructure Formation during Amorphous Carbon Films Deposition
Veröffentlicht in Acta physica Polonica, A
VolltextArtikel -
17
Formation of polymeric layer during silicon etching in CF2Cl2 plasma
Veröffentlicht in Vacuum
VolltextArtikel -
18
-
19
Different Wavelength Laser Irradiation of Amorphous Carbon
Veröffentlicht in Acta physica Polonica, A
VolltextArtikel -
20