-
1
-
2
-
3
Boron atomic-scale mapping in advanced microelectronics by atom probe tomography
Veröffentlicht in Applied physics letters
VolltextArtikel -
4
Atomic scale investigation of arsenic segregation in high-k metal gate stacks
Veröffentlicht in Scripta materialia
VolltextArtikel -
5
-
6
C54-TiSi2 formation using nanosecond laser annealing of A-Si/Ti/A-Si stacks
Veröffentlicht in Thin solid films
VolltextArtikel -
7
C54-TiSi$_2$ formation using nanosecond laser annealing of A-Si/Ti/A-Si stacks
Veröffentlicht in Thin solid films
VolltextArtikel -
8
-
9
-
10
-
11
-
12
-
13
-
14
Kinetics study of NiPt(10 at.%)/Si0.7Ge0.3 solid state reactions
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
VolltextArtikel -
15
-
16
-
17
-
18
-
19
-
20