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Mask Patterning Challenges Beyond 150 nm
Veröffentlicht in Japanese Journal of Applied Physics
VolltextArtikel -
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Thermal-field-emission electron optics for nanolithography
Veröffentlicht in Journal of applied physics
VolltextArtikel -
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Mask patterning challenges for device fabrication below 100 nm
Veröffentlicht in Microelectronic engineering
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