-
1
AlN/GaN/AlGaN-on-Si HEMT Achieving 1.3 W/mm at 5 V for 5G FR2 Handsets
Veröffentlicht in IEEE electron device letters
VolltextArtikel -
2
-
3
-
4
-
5
Band alignment between GaN and ZrO2 formed by atomic layer deposition
Veröffentlicht in Applied physics letters
VolltextArtikel -
6
-
7
-
8
-
9
-
10
-
11
-
12
-
13
-
14
-
15
-
16
-
17
-
18
-
19
-
20